某半导体器件制造技术品牌因晶圆进行维护清洁程序生产含氨污水，排水量200吨/天。污水面除挥发酚外还含带氟化物和氢化物发生器高价属，清理麻烦大。地区排出标请求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理成分表及来历 晶圆洗污水（包括原因）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程化工废水：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值起伏较大大 CMP考虑废渣：含硅颗粒剂及挥发酚 办理方法工作流程 运用"物理沉垫+膜剥离+折点氯化"搭配组合新工艺： 预操作 ：加药系统CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 反渗透装置体系 ：彻底清除0.01μm以内粒状物 反参透萃取 ：将高锰酸盐指数沉淀至1000mg/L以上内容 折点氯化 ：准确把握氯污泥脱水量，将挥发酚和转化了为氢气 亚铁离子交互 ：基本保障巨资属及格 决定的效果 氟化物稳定的＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属含水量不超检验限 水工业废水处理率达75% 活性污泥产生了量缩短40%