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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工制造商处在华东的地方的地方,主耍生育加工8寸大光电器件晶圆,日访问量化工废水污染物口量约800吨。因此生育加工环节中在使用过量盐酸开始晶圆蚀刻,出现化工废水下氟化物酸度高达模型200-300mg/L,远超國家污染物口标准(10mg/L下类)。 废渣组成及源头 废水处理工艺大部分产于6个部分: 晶圆蚀刻加工过程 :含高质量浓度氟化物(HF)、氯化铵及极少量血本属 化学反应机械性打蜡 (CMP)污废水 :含nm级硅粒状、有机肥料络合剂 生产设备洗电镀废水 :含异丙醇、氟化物等可挥发物 补救方法具体流程 进行"耐腐蚀发展+混凝土发展+深入过虑"三级分销处置体系: 四级处置 :加药系统氯化钙和氢脱色钙,养成氟化钙凝固,氟化物的还原率达85% 三级清理 :增添PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(聚乙烯酰胺),的还原溶液态感染物 三阶段整理 :用多导电介质筛选器和活性酶类炭吸咐,出液氟化物盐浓度稳定的在8mg/L下面的 要点的设备其中包括:pH自动式转换控制系统、斜管水解池、板框压滤设备(废水脱水烘干)。 终于作用 顶目执行四年检测数据库表示: 氟化物均浓度值:7.2mg/L(不超祖国规则) COD清除率:92% 污泥处理含水分率:≤65% 年收旧氟化钙加工品的约150吨,保证资源的化使用

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